管道紫外線光固化修復技術在半導體制造中被廣泛應用，主要用于修復半導體器件表面的缺陷和傷。具體來說，管道紫外線光固化修復技術可以通過在缺陷處施加合適的波長和能量的紫外線光使其局部呈現高溫、高壓等條件，從而使缺陷區域的單晶硅溶解并重新結晶，最終實現缺陷的修復和表面的平整化。這種技術可以有效提高芯片質量、減少生產成本，并且具有高效、快速、無染等優點。隨著微電子技術的不斷發展，管道紫外線光固化修復技術在半導體制造中的應用也將越來越重要。
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